摘要：窄带滤光片是3D结构光人脸识别接收模组的重要组成部分，人脸识别精确率很大程度上取决于滤光片性能优劣，所以高性能窄带滤光片的开发对于红外人脸识别尤为重要。

在本项目中,膜系设计方面利用基础多腔全介质膜系，膜堆进行设计；在材料方面，选用Si与Si02高低折射率匹配；监控方式上使用光控方法监控膜层厚度；在制备方面，调整沉积速率，温度等工程参数，采用磁控溅射方式镀制薄膜；同时针对窄带滤光片镀制难度大，外观物理特性普遍欠佳，成本高，通过优化设备参数，改进工艺流程极大的降低生产成本。

所镀制薄膜垂直入射条件下，光学性能中心波长940nm透射率高达95%以上，垂直入射与30度入射时中心波长漂移小于11nm，物理外观良好，满足高性能窄带滤光片的开发要求。

关键词： HELIOS 800  结构光  窄带滤光片  膜厚监控  磁控溅射

目录

摘要

Abstract

1.绪论-1

1.1概述-1

1.2 结构光与窄带滤光片-2

1.2.1 结构光的原理及研究现状-2

1.2.2 滤光片的原理及研究现状-3

1.3 本课题的主要内容-5

2.膜系设计-6

2.1薄膜干涉理论-6

2.2窄带滤片的理论设计基础-9

2.2.1法布里一珀珞滤光片-9

2.3窄带滤光片的基础膜系设计-11

2.3.1膜层材料的选择-11

2.3.2膜系设计-13

3.膜层的制备-18

3.1 镀膜设备-18

3.2制备工艺因素分析-19

3.2.1基板处理-19

3.2.2薄膜淀积速率-19

3.2.3基板温度-20

3.2.4真空系统真空度-20

3.3膜层厚度的监控-20

3.4镀膜基本流程-22

3.41 HELIOS800设备规程-22

3.42滤光片制备工艺流程-22

4.测试结果与分析-24

4.1光学特性测试结果与分析-24

4.2窄带滤光片外观分析与改进-25

5. 总结-28

参考文献-29

致谢-30