摘  要

近些年，自旋电子系统中的固有缺陷引起的本征磁性在自旋电子学中的潜在应用受到了越来越多的关注。本文主要研究了立方氮化硼材料中缺陷诱导的铁磁性，通过x射线分析表明立方氮化硼样品中不含有铁、钴、镍磁性杂质。拉曼光谱测试表明立方氮化硼晶格中存在大量因富硼引起的缺陷，磁性测量结果显示该缺陷诱导了非磁性的立方氮化硼具有铁磁性。

本课题的研究内容为立方氮化硼材料在未来的自旋电子器件中实现应用提供了一种可能。

目    录

 

1 引言

1.1研究背景

1.2  概念界定

1.2.1稀磁半导体的介绍

1.2.2氮化硼的分类

1.3 国内外研究现状

1.4 研究思路与方法

1.5 研究的目的与意义

2 实验相关仪器的介绍

2.1 X射线衍射仪的介绍

2.1.1 X射线衍射仪的工作原理

2.1.2 X射线衍射仪的使用范围

2.1.3 X射线衍射仪使用的介绍

2.2 超导量子干涉器（ SQUID）的介绍

2.2.1 超导量子干涉器的工作原理

2.2.2 超导量子干涉器可测量的相关物理量

2.2.3  超导量子干涉器的使用说明

2.3 国产六面顶压机的介绍

2.3.1国产六面顶压机的工作原理

2.3.2 六面顶压机的构造原理

3 采用高温高压的方法制备立方氮化硼材料的过程描述

4 立方氮化硼的表征

4.1 立方氮化硼的表面形貌

4.2立方氮化硼晶体的结构

5 非磁性立方氮化硼的磁性测量

6 结论

参考文献 11

致谢 11